PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統是一款低成本，適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備，整套系統的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統包括反應腔室，真空系統，RF射頻系統，反應氣路系統，電器控制，軟件程序等幾個子系統。

整套系統為全自動化軟件控制，支持recipe編寫，支持多個工藝步驟自動運行的能力。設備設有互鎖，斷電記憶，自動報警，分子泵保護等安全保護功能。為了保證設備的靈活性預留一定的升級空間。

科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統技術參數：

1.反應腔室：T6060鋁合金，適合4寸及以下樣品；

2.真空系統由分子泵以及機械泵組成，真空測量系統采用電容式壓力計；

3.設備配有1000w的13.56MHz的射頻電源，自動射頻匹配器，以及射頻線纜以及專用射頻接頭；

4.配有4路反應氣體，最多刻升級至6路；

5.ICP 等離子體刻蝕機整套系統為自動化控制系統，該自動化系統通過PLC、工控機以及控制軟件共同實現。

科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統應用領域：

微電子制造‌：等離子刻蝕廣泛應用于集成電路和芯片制造，用于制作電路中的細微結構，如晶體管、電容器等，以及修復或調整芯片上的電子設備。

‌光學器件制造‌：等離子刻蝕技術可用于制造光學器件，如光纖、光波導等。通過控制等離子體的能量和密度，可以在光學材料上形成所需的結構和形狀。

‌MEMS制造‌：等離子刻蝕機可用于制造微機電系統（MEMS）中的細微結構和器件，例如微型傳感器、無線通信設備和微機械運動系統等。

‌光罩制造‌：等離子刻蝕用于制造光罩上的圖案，以及修復或修改光罩上的細微結構。

‌生物醫學應用‌：等離子刻蝕可用于生物醫學領域，如微流控芯片、生物芯片等的制造，實現微觀結構的制備，用于生物分析和實驗。

‌納米技術‌：等離子刻蝕可以用于制造納米材料和納米結構，如納米管、納米顆粒等，通過控制等離子體的成分和反應條件，實現對材料的精確修飾和控制。

‌晶圓制造‌：在晶圓制造過程中，等離子刻蝕機利用四氟化碳氣體進行硅片的線刻蝕，以及氮化硅刻蝕和光刻膠的去除。通過調整氣體成分，可以精確控制刻蝕深度，實現微米級的高精度刻蝕。