等離子去膠機是一種環保的半導體制程前減薄過程中清洗化學機械研磨殘膠的設備，主要應用于集成電路制造業、光電子工業及液晶顯示器行業。等離子去膠機以氣體放電為驅動力，在實驗室里常用非惰性氣體，如純氧、氮和氦。經過電離處理而產生的活性物質，可以將表面染料分解為無毒性分子，去除表面膠片使得后續工序不會受到殘留雜質污染。
等離子態(PlasmaState)，是由電子與離子(或大分子)相互作用產生的一種氣體。在等離子體狀態下，氣體分子中的部分或者全部電子和分子離開了原有結構，形成了大量的離子電子和自由基。等離子體具有很高的反應活性，能夠把氣體分子轉化成帶正/負電荷的粒子，從而改變物質性質，改善表面性能。
在一定壓強和電壓下，通過氣輝放電的方式產生等離子體，并將其直接噴向被處理表面，形成化學反應區域。等離子體能夠解離化學鍵并且改變分子結構，從而清洗掉表面的涂層粘性雜質污染，去除提示性化學機械研磨殘留殘膜，并且增加表面的活性，提升表面潤濕性和附著力。清洗后表面不會出現新的殘膠或者其他污染物，這使得等離子去膠技術成為典型的原位清洗、處置技術。
等離子去膠機的優勢：
1.可去除微米級別的污染.
2.可去除殘留污染表面，在減少手工操作方面有明顯的時間和成本優勢.
3.清洗過程不需要使用溶劑溶液，更加環保，因此不會引起二次污染及消耗大量的資源.
4.可以對多種不同物質進行去膠，具有廣泛適用性.
等離子去膠機在集成電路制造、光電子工業及液晶顯示器行業的特殊清潔要求下得到了廣泛的應用。在運作過程中，普遍存在電磁干擾現象，操作時需主意安全，定期維護設備。為確保能夠穩定的使用，建議將其放置在防靜電環境下，并按時檢測機器的電場功率密度變化情況等信息，從而提升機器設備的長期穩定性和可靠性。
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